等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?刻蚀率y(单位A/m),电极间间隙X1(单位cm),气流(单位SCCM),和应用在阴极的RF功率(W)是三个影响因素,实验中
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/07/04 15:05:57
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等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?
刻蚀率y(单位A/m),电极间间隙X1(单位cm),气流(单位SCCM),和应用在阴极的RF功率(W)是三个影响因素,实验中只有16组数据并且有一半自变量是一致的但刻蚀率相差很多,不知道如何处理,能用量纲分析吗?
等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量 刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?刻蚀率y(单位A/m),电极间间隙X1(单位cm),气流(单位SCCM),和应用在阴极的RF功率(W)是三个影响因素,实验中
你这里的 刻蚀率应该是,硅氮化物的可是速率与掩膜的比值.