作业帮精确测量硅片上的二氧化硅薄膜的厚度精确测量二氧化硅薄膜厚度时需要用化学方法把二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,使它成为劈尖状.请问:怎么把薄膜腐蚀成劈尖状?
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/10/03 07:54:07
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精确测量硅片上的二氧化硅薄膜的厚度精确测量二氧化硅薄膜厚度时需要用化学方法把二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,使它成为劈尖状.请问:怎么把薄膜腐蚀成劈尖状?
精确测量硅片上的二氧化硅薄膜的厚度
精确测量二氧化硅薄膜厚度时需要用化学方法把二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,使它成为劈尖状.请问:怎么把薄膜腐蚀成劈尖状?
精确测量硅片上的二氧化硅薄膜的厚度精确测量二氧化硅薄膜厚度时需要用化学方法把二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,使它成为劈尖状.请问:怎么把薄膜腐蚀成劈尖状?
若实验未开始,在蒸镀的时候,遮上一块硅片,根据探针测试法就可以知道二氧化硅薄膜厚度了.
如果已蒸镀,可用氢氟酸和氟化氨溶液将二氧化硅腐蚀,不一定要劈尖状,因为量一下腐蚀彻底的边缘硅片厚度,再与硅片上二氧化硅薄膜完整的区域的厚度,一比较,就可知道薄膜厚度.
精确测量硅片上的二氧化硅薄膜的厚度精确测量二氧化硅薄膜厚度时需要用化学方法把二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,使它成为劈尖状.请问:怎么把薄膜腐蚀成劈尖状?
制造半导体元件时,常需要精确地测定硅片上的二氧化硅薄膜的厚度,这时可以把二氧化硅薄膜的一部分腐蚀掉,使它成为劈尖,利用等厚度干涉条文测处其厚度.如图,已知Si的折射率为3.42,SiO2的
大学物理光的等厚干涉问题为了精确测量硅片（n0=3.4）上的氧化膜的厚度,常用化学的方法把薄膜的一部分腐蚀掉,使之成为尖劈形,称为“台阶”.已知氧化膜的折射率为n=1.5.用波长为λ=589.3nm
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