作业帮真空磁控溅射技术是?真空磁控溅射技术概念
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/11/15 16:21:49
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真空磁控溅射技术是?真空磁控溅射技术概念
真空磁控溅射技术是?
真空磁控溅射技术概念
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磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法.它是在二极直流溅射的基础上,在靶表面附近增加一个磁场.电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了电离产额,从而放电区的电离度提高,即离子和电子的密度增加.放电区的有效电阻变小,电压下降.另外放电区集中在靶表面,放电区中的离子密度高,所以入射到靶表面的离子密度大大提高,因而溅射产额大大增加.
也就是磁场控制溅射方式.
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