磁控溅射镀膜 膜面放电问题您好,请教您一下,膜面放电原因及防治措施.和气体比例有关系吗?用脉冲电源也不行.很是着急!靶材清理得干净无中毒现象.做磨过边得没有,镀原片就有.打磨后会

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/11/27 23:25:33
磁控溅射镀膜  膜面放电问题您好,请教您一下,膜面放电原因及防治措施.和气体比例有关系吗?用脉冲电源也不行.很是着急!靶材清理得干净无中毒现象.做磨过边得没有,镀原片就有.打磨后会
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磁控溅射镀膜 膜面放电问题您好,请教您一下,膜面放电原因及防治措施.和气体比例有关系吗?用脉冲电源也不行.很是着急!靶材清理得干净无中毒现象.做磨过边得没有,镀原片就有.打磨后会
磁控溅射镀膜 膜面放电问题
您好,请教您一下,膜面放电原因及防治措施.和气体比例有关系吗?用脉冲电源也不行.很是着急!靶材清理得干净无中毒现象.做磨过边得没有,镀原片就有.打磨后会好一点儿.谢谢您!

磁控溅射镀膜 膜面放电问题您好,请教您一下,膜面放电原因及防治措施.和气体比例有关系吗?用脉冲电源也不行.很是着急!靶材清理得干净无中毒现象.做磨过边得没有,镀原片就有.打磨后会
南玻的?幸会.
膜面放电属于常见问题,其原因是等离子体导电现象严重,放点区域较大.
根据磁控溅射镀膜情况可以分为:
1.基体距离靶材较近,(此类情况基本可以排除,一般来说距离超过15厘米就没有多大问题)
2.放点区域距离靶材较远,表现为磁场强度较小,电压偏高.在此类情况下如果提高溅射气压可以解决.
3.靶、真空室、基体不洁净,具有尖端放电存在.
4.反应气体较多,溅射气体较少,表现为电压偏低.
说得可能太笼统,你看是否有帮助,如果不行的话,把实际情况表述下再结合实际情况分析.