作业帮目前,数字集成电路的瓶颈是什么?目前,数字集成电路在设计和工艺方面的瓶颈 分别 有哪些?以及解决的方法,分别是什么?
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/09/29 14:53:28
xSn@/[)kDɢTԤ(6@hHxQ̝EgpfVmwy<{ v*&ZE
PWWtmnpⶉ| /ЛQ#>a=nx39PP Ӡy>P- ( cxhy$~ tPl2NF)15"r|:1@Ȼ[[HwX]CdόC 'Th~FT+=qvdXAA!ms&na+C.\Y"$fR }-\dOd,x "X\φ -HtE2QP)O;Ҁ
-.DSAm̮3XzԘ [1]2G9aϱL+MʈI,,r`y`:/_r*e
T'+P41/<M8no*Kr= ِ-d^ gNw<#|Ry,`) &"O0WK%/Ggis|"n
目前,数字集成电路的瓶颈是什么?目前,数字集成电路在设计和工艺方面的瓶颈 分别 有哪些?以及解决的方法,分别是什么?
目前,数字集成电路的瓶颈是什么?
目前,数字集成电路在设计和工艺方面的瓶颈 分别 有哪些?
以及解决的方法,分别是什么?
目前,数字集成电路的瓶颈是什么?目前,数字集成电路在设计和工艺方面的瓶颈 分别 有哪些?以及解决的方法,分别是什么?
设计上来说,主要是 由于集成的门电路越来越多,verilog等纯数字化已不能完全反映电路的实际特性,因为单管的延迟和其他效应必须要率在内,所以 对H spice的要求越来越高,尤其是做模拟电路的时候,相关问题要考虑的更加细致.版图设计的过程中,由于上诉因素,版图的对称性和一致性的要求也越来越高.
工艺上来说,主要是特征尺寸(CD)的越来越小,以光刻和刻蚀为主的图形加工难度越来越大,目前22nm主流技术是 浸润技术.虽然 e-beam技术CD更小,但速度较慢.将来如果 导电沟道