硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/09/10 09:24:01
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硅铝靶材磁控溅射做二氧化硅涂层需要具备哪些条件及参数
磁控溅射镀锗膜、二氧化硅膜的工艺参数是多少?作为参考!
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用磁控溅射法法制备二氧化硅薄膜,二氧化硅薄膜的硬度与通氧量有什么关系?
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