直流磁控溅射 射频磁控溅射 不同的原因
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/10/06 09:19:33
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直流磁控溅射 射频磁控溅射 不同的原因
直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
磁控溅射法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为直流磁控溅射法和交流磁控溅射法还有射频磁控溅射 非平衡磁控溅射
直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材?粘贴无效哈
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作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉.作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉,而且调节溅射电压时,电压不变,电流却急剧增大,请问是有什么原因引起?该如何解决?(氩气调节至400sccm)
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