集成电路工艺主要分为哪几类每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,简述光刻的工艺过程

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/11/28 11:03:16
集成电路工艺主要分为哪几类每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,简述光刻的工艺过程
x͐N@_I&]40q'Pt)A!'BFB`҂}3അ1&n{NI*&ODL:.`<EVzsK2raT [X6VrI-o^I=&~#b\&SD&|@7ObfE:Rz{13SG|  ׄo/fo 6ۄ6ƛHrǵB0rb*Ho# Xr'E0dk{c54Ske"}&!3$&tYsۥ/Re8 D

集成电路工艺主要分为哪几类每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,简述光刻的工艺过程
集成电路工艺主要分为哪几类
每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,
简述光刻的工艺过程

集成电路工艺主要分为哪几类每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,简述光刻的工艺过程
光刻的工艺过程如下:
1) 打底膜(HMDS粘附促进剂),2)涂光刻胶,3) 前烘,4)对版 曝光,5)显影,6)坚膜,7)刻蚀:采用干法刻蚀(Dry Etching),8)去胶:化学方法及干法去胶.