不同的PECVD装备有什么不同的工艺

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/07/29 02:44:55
不同的PECVD装备有什么不同的工艺
xN@_h=yD&RJ"*VѨ軐WphcO^2dr~\nuo`W+0Tшz>arQOƲ/NL#"xؙpM`e,.JgNLJ+y.7khU4hbao b֊[ot>˧`je[+4Aϧ|ȕhd=9+U`8{8H_^4%z'L4k $iJ`峙QP,?) .|9l7M0|[r\:)n p Z

不同的PECVD装备有什么不同的工艺
不同的PECVD装备有什么不同的工艺

不同的PECVD装备有什么不同的工艺
你这里所说的“不同”,是不是指管式和板式的差别呢?
管式PECVD的工艺原理是通过低压气氛的射频放电产生等离子体,辅助以加热系统,从而在wafer表面沉积镀膜;
而板式PECVD则是通过石英管保护的铜管,将微波导入工艺腔室,从而加热气体等离子,最后实现在wafer表面沉积薄膜的目的.