为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?mos器件的缩小比例为什么是0.
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/09/06 12:23:42
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为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?mos器件的缩小比例为什么是0.
为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?
mos器件的缩小比例为什么是0.
为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?mos器件的缩小比例为什么是0.
为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同?
答:光刻是利用一种叫光阻剂的材料通过曝光显影来完成的,这种光阻剂只有在黄色是管线下才不会被曝光,当需要曝光的时候会在一台专门的设备里曝光!
对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的?
答:等级分为万级,千级,百级,十级,比如说万级就是1立方空间里要小于等于10000颗尘埃
具体怎么选用那要看工艺要求
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