集成电路工艺库文件中“N_LV_18_MM”的18是表示什么电压?如果表示的是阈值电压的话,怎么还分 常规阈值电压（N_18_MM）、低阈值电压（N_LV_18_MM）、0阈值电压（N_ZERO_18_MM ）都写着18?

集成电路工艺中什么叫爆米花效应 集成电路工艺库文件中“N_LV_18_MM”的18是表示什么电压?如果表示的是阈值电压的话,怎么还分 常规阈值电压（N_18_MM）、低阈值电压（N_LV_18_MM）、0阈值电压（N_ZERO_18_MM ）都写着18? 集成电路制备过程中哪些关键步骤需要清洗工艺 集成电路封装工艺的基本原理 请教“oxide sidewall spacer” 怎么翻译啊?MOS集成电路工艺中LDD工艺的“oxide sidewall spacer” 怎么翻译啊? 集成电路工艺预扩散的原因是什么? 1.集成电路与分立器件工艺有什么不同? 集成电路中vs什么意思 列举几种集成电路典型工艺,工艺上经常提到0.18,0.25指的是什么 集成电路库的英语单词是什么 工艺文件包含检验规程吗? 如何编制服装工艺文件与管理 二氧化硅在集成电路中起什么作用 二氧化硅在集成电路中起什么作用? 集成电路中为什么要用恒流源替代电阻? 为什么集成电路中多用P型衬底 集成电路工艺主要分为哪几类每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,简述光刻的工艺过程 半导体工艺难题!1,现在先进集成电路光刻工艺中曝光光源的波长为193nm或157nm,根据现代光学理论,曝光光刻胶的分辨率大约等于波长.然而,现在,在45nm器件工艺中,使用的曝光光源仍然是193nm光源