现在普遍采用的光刻技术是193nm浸入式 这一技术直接导致157NM的放弃 我想问一下如果157光刻技术研制成功157能否结合浸入式技术 157浸入和EUV比起来哪个更好
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/07/08 15:20:16
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现在普遍采用的光刻技术是193nm浸入式 这一技术直接导致157NM的放弃 我想问一下如果157光刻技术研制成功
157能否结合浸入式技术 157浸入和EUV比起来哪个更好
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157nm已经被跳过了,相信 193nm浸入式可以到20nm, 20nm一下就直接EUV了
现在普遍采用的光刻技术是193nm浸入式 这一技术直接导致157NM的放弃 我想问一下如果157光刻技术研制成功157能否结合浸入式技术 157浸入和EUV比起来哪个更好
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